二氧化硅膜用什么PVD设备镀比较好
来源：学生作业帮助网 编辑：六六作业网 时间：2024/11/28 01:10:06
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二氧化硅膜用什么PVD设备镀比较好
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如果用PVD,那你就用中频或者直流溅射电源接纯硅靶,如果电源质量好可以加入高纯氧气溅射,如果电源脆弱建议通入适量的惰性气体,但此方法纯度不高!
如果用CVD,这个有些难度!我们现在选用的药剂是六甲基二硅氧烷（液态,经气化设备转为气体质量流量）,这个对设备稳定要求比较高,但出来纯度比较好.这种方法设备也简单,只需要辉光电极和偏压即可,其他组分你可以自己调试调试,也许会比我们做得更好呢!呵呵!
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