多晶硅生产精馏过程中主要是除去哪些物质?哪些物质易除去?哪些物质难除去?

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/26 12:47:03
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主要去除三氯氢硅中的痕量杂质即Mn、 Fe 、Ti、 Mg 、 Al、 Pb、 Ca、 Cr、 Cu、 Zn等金属杂质.
硼、磷可分别用自然挥发法和气相色谱法测定,所以易于去除.
镁、钙在水中含有少量不易去除 、铁等在设备中就含有,所以也不易去除