造成大气平流层臭氧损耗的人为排放物,并阐述臭氧的损耗机理
来源：学生作业帮助网 编辑：六六作业网 时间：2024/11/25 14:39:31
造成大气平流层臭氧损耗的人为排放物,并阐述臭氧的损耗机理
造成大气平流层臭氧损耗的人为排放物,并阐述臭氧的损耗机理
造成大气平流层臭氧损耗的人为排放物,并阐述臭氧的损耗机理
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国际组织《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》及其该《议定书修正》规定了15种氯氟烷烃（CFCs）、 3种哈龙、40种含氢氯氟烷烃（HCFCs）、34种含氢溴氟烷烃（HBFCs）、四氯化碳（CCl4）、甲基氯仿（CH3CCl3）和甲基溴（CH3Br）为控制使用的消耗臭氧层物质,也称受控物质.
氯氟烷烃（CFCs）.此类化合物自1928年人类首次合成后被以多种方式使用,冰箱、空调制冷剂、气雾剂制品中的推进剂（CFC11、CFC12）、生产靠垫和垫子的软发泡剂、印刷线路板和其它设备的清洗剂等.
含氢氯氟烷烃（HCFC）.此类物质是CFCs的一种过渡性替代品,HCFC因为含有H,使得它在底层大气易于分解,对O3层的破坏能力低于CFCs,但长期和大量使用对O3层危害也很大.
在工程和生产中作为溶剂的四氯化碳（CCl4）和甲基氯仿（CH3CCl3）同样具有很大的破坏O3层的潜值,所以也被列为受控物质.
溴氟烷烃主要是哈龙：哈龙1211（CF2BrCl）、哈龙1310（CF3Br）、哈龙2420（C2F4Br2）,这些物质一般用作特殊场合的灭火剂.此类物质对臭氧层最具破坏性,比CFCs高3～10倍,1994年发达国家已经停止这3种哈龙的生产.
近年来,主要用于土壤熏蒸和检疫的另一种破坏臭氧层的含溴化合物即甲基溴（CH3Br）引起了人们的重视,它也被列为受控物质.
www.haolawyer.com/article/view_7705.html
氯氟烃破坏O3
氯氟烃中用量最大的师氟里昂（CF2Cl 2）,其对O3破坏的机理为：
光分解产生Cl原子 CF2Cl 2 + hν→ Cl + CF2Cl
Cl引发破坏O3的链反应：Cl + O3 → ClO + O2
ClO + O → Cl + O2
总反应：O3 + O → 2O2 一个Cl原子可破坏10万个O3分子
除氟里昂外,其他卤代烷烃如：CF3Br (哈龙)、CCl4(氯仿)、CH3Br（甲基溴）等 同样会破坏O3,且Br破坏O3的能力比Cl更强.
NOx破坏O3
NOx 来自核爆炸、超音速飞机、航天飞机、氮肥的使用、微生物的转化等.
NO + O3 → NO2 + O2
NO2 + O → NO + O2
总反应 O3 + O → 2O2