想在ITO上镀铜,有什么简单点的方法吗?
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/19 00:21:00
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常规的化学镀铜层存在易剥落、不均匀、清洁度差等问题,所以提出在化学镀铜工艺之前增加等离子体处理工序.通过改变等离子体功率、处理时间和处理距离等参数,使ITO表面获得较好的化学镀铜层.实验结果表明,处理距离越短对减小水接触角、提高清洁度和附着力越有利;而等离子体功率和处理时间对基板表面状态的影响不是单调的.因此通过选择合适的等离子体功率、处理时间和处理距离,可以获得附着力好、清洁度高的化学镀铜层.
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