集成电路工艺主要分为哪几类每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,简述光刻的工艺过程

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/11/22 00:13:11
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集成电路工艺主要分为哪几类
每一类包括哪些主要工艺,简述各工艺的主要作用,
简述光刻的工艺过程

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光刻的工艺过程如下:
1) 打底膜(HMDS粘附促进剂),2)涂光刻胶,3) 前烘,4)对版 曝光,5)显影,6)坚膜,7)刻蚀:采用干法刻蚀(Dry Etching),8)去胶:化学方法及干法去胶.