解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/25 13:31:24
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大规模集成电路的工艺对氧化层的质量要求比较高.干氧工艺产生的氧化层生长速率低,但是很致密.可以生长出高质量的氧化层.
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