请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?超声起作用需要一个过程吗?什么因素会影响超声波的正常工作?

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/24 08:00:25
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请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?
超声起作用需要一个过程吗?什么因素会影响超声波的正常工作?

请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?超声起作用需要一个过程吗?什么因素会影响超声波的正常工作?
冒泡是超声波引起的气化空泡,不是光由清洗机引起的,清洗剂要水流有落差后才能不断产生泡沫,还有部分泡沫是硅和碱性清洗剂反应生成的氢气,超声是慢慢作用于硅片表面的,槽体内的水量会影响超声波电流大小,还有时间长一点超声作用也会明显点,硅片间缝隙越大超声效果也越好