请问二氧化硅、氮化硅和磷原子在半导体制造中的作用分别是什么?
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/11/18 00:35:34
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如果想了解这些知识首先要知道半导体制造中最重要的最基础的是PN结,晶体管、MOS管都是以此为基础制造出来的.而p作为掺杂剂,用于形成n型半导体.二氧化硅主要是做掩蔽膜.氮化硅本身就是半导体,既可以做掩蔽膜又可以做异质结,作为第三代半导体,它有很大的发展潜力
磷原子是掺杂原子,用于二氧化硅(硅片的热氧化层)和氮化硅化合物半导体的掺杂。使其成为N型半导体。
二氧化硅是传统的绝缘材料,用于制作栅电容和隔离。磷原子作为N型参杂,提供电子。GaN最主要的是制作“高电子迁移率晶体管(HEMT)”,由本征GaN与AlGaN的异质结形成二维电子气增大电子在高电场下的迁移率。
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