三氟化氮NF3（沸点-129℃）不显Lewis 碱性,而相对分子质量较低的化合物NH3 （沸点-33℃）却是个人所共知
来源：学生作业帮助网 编辑：六六作业网 时间：2024/12/31 17:41:45
三氟化氮NF3（沸点-129℃）不显Lewis 碱性,而相对分子质量较低的化合物NH3 （沸点-33℃）却是个人所共知
三氟化氮NF3（沸点-129℃）不显Lewis 碱性,而相对分子质量较低的化合物NH3 （沸点-33℃）却是个人所共知
三氟化氮NF3（沸点-129℃）不显Lewis 碱性,而相对分子质量较低的化合物NH3 （沸点-33℃）却是个人所共知
因为F的电负性很大（4.0）,所以在NF3分子中,负电荷集中于F原子上,N原子上正电荷集中.因此,较难给出电子.也可以从化合价角度考虑：F是-1价,N是+3价,正性的N当然难给出电子.
而NH3不同,H的电负性小于N的电负性,使N上负电荷集中,给出孤对电子是容易的,因此NH3是一个典型的Lewis base.从化合价看,H是+1价,N是-3价.
因为F的体积较H大很多，所以他可以占满整个N原子外面的体积，是N上的故对电子不易发生水解。
三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
化学品中文名称： 三氟化氮 化学品英文名称： n...
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三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
化学品中文名称： 三氟化氮 化学品英文名称： nitrogen trifluoride 三氟化氮
英文名称： nitrogen fluoride 技术说明书编码： 67 CAS No.： 7783-54-2 分子式： NF3 分子结构：三角锥 键角：102.5° 分子量：71.0019 熔点(101.325kPa)：-206.79℃ 沸点(101.325kPa)：-129.0℃ 液体密度(-129℃，101.325kPa)：1540kg/m3 气体密度(20℃，101.325kPa)：2.96kg/m3 分子结构
相对密度(气体，空气=1，20℃，101.325kPa)：2.46 比容(21.1℃，101.325kPa)：0.3371m3/kg 气液容积比(15℃，100kPa)：520L/L 临界温度：-39.3℃ 临界压力：4530kPa 临界密度：522kg/m3 临界压缩系数：0.317 熔化热(-206.79℃，101.325kPa)：5.61kJ/kg 气化热(-129℃，101.325kPa)：163.29kJ/kg 比热容(气体，25℃，101.325kPa)：Cp=751.68J/(kg·K) 蒸气压(-171℃)：1.333kPa (-100℃)：470kPa (-60℃)：2200kPa 三氟化氮
粘度(气体，25℃，101.325kPa)：0.0183mPa·S 折射率(气体，25℃)：1.0004416 主要成分：纯品 外观与性状：无色、带霉味的气体。 相对密度(水=1)：1.89(沸点,液体) 溶解性：不溶于水。 主要用途：用作高能燃料。 废弃处置方法：根据国家和地方有关法规的要求处置。或与厂商或制造商联系，确定处置方法
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