三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂

三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂 三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是A．NF3是氧化剂,H2O是还原剂B．还原剂与氧化 三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体 它无色,无臭,在潮湿的空气（是一道高考选择题）求每个选项详细的分析过程.题目这里就不打了,百度一下就出来了.在潮湿的空气中 硅烷（SiH4）和三氟化氮(NF3)的反应产物是什么? 硅烷（SiH4）和三氟化氮(NF3)的反应产物是什么? NF3(三氟化氮)是不是离子化合物? 三氟化氮（NF3)是共价化合物还是离子化合物?如果是共价化合物,怎么百度里又有说NF3的N是+3价的? 三氟化氮NF3（沸点-129℃）不显Lewis 碱性,而相对分子质量较低的化合物NH3 （沸点-33℃）却是个人所共知 三氟化氮(NF3)是无色无味气体,它可由氨气和氟气反应制得:4NH3+3F2===NF3+3NH4F.下列说法正确的是A．NH4F的还原性比NH3强B．NF3的氧化性比F2强C．该反应中被氧化和被还原物质的物质的量之比为4∶3D 三氟化氮（NF3）是一种新型电子材料,它在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应应,其反应的产物有：HF、NO和HNO3.若反应中转移的电子数目为6.02X10^23,生成22.4L NO.为什么错了? 三氟化氮(NF3)是一种无色无味的气体,它由氨(NH3)和氟(F2)在一定条件下直接反应得到,4NH3＋实验室为了简便制取干燥的氨气,下列方法中适合的是（ ）A．加热氯化铵固体,产生的气体用碱石灰 三氟化氮 NF3 氟元素为-1价 则氮元素的化合价是多少我知道答案是+3价 可我不知道为什么呀 请教一下 讲原因 元素推导题.与C同主族的元素E的最高化合价是+3价,但在水溶液中E+离子远比E3+离子稳定…A、B、C、D、E、F是六种元素,已知：1、A～F的原子序数依次增大2、化合物AB3在微电子工业中是一种优良 硅谷工业有什么特点?硅谷在微电子工业中占什么地位?它的兴起主要有那些条件? 三氟化氮的性质问题三氟化氮在空气中是否稳定,能否发生化学反应? 生成什么物质? 六氟化钨、三氟化氮 的出口退税率请教最新的六氟化钨、三氟化氮等电子用高纯气体的出口退税率为多少? 三氟化氮的电子式怎写 什么是三氟化氮