化学刻蚀如何出缓坡
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/30 08:40:28
化学刻蚀如何出缓坡化学刻蚀如何出缓坡化学刻蚀如何出缓坡一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法,包括:A.在基片上涂敷介质层;B.在高温下固化;C.旋涂光刻胶;D.光刻、显影,制作倒梯形剖面的光
化学刻蚀如何出缓坡
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化学刻蚀如何出缓坡
一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法,包括:A.在基片上涂敷介质层;B.在高温下固化;C.旋涂光刻胶;D.光刻、显影,制作倒梯形剖面的光刻胶;E.用含有氧气的等离子体进行干法刻蚀,得到正梯形剖面的介质缓坡.本发明利用反转胶和负性光刻胶等能形成倒梯形剖面的光刻胶,胶的侧面可控性好,由于介质缓坡能较好控制,可提高金属爬坡的边缘可控性,提高器件的成品率和增加电路的电流的处理能力
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