用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2025/01/11 15:19:35
用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应实际上是酸性条件下,H2O2氧化Cu:化学方程式:Cu+H2O2+H2SO4=C
用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应
用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应
用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应
实际上是酸性条件下,H2O2氧化Cu:
化学方程式:Cu + H2O2 + H2SO4 = CuSO4 + 2 H2O
离子方程式:Cu + H2O2 + 2H+ = Cu2+ + 2 H2O
Cu + H2O2 + 2H+ -----> Cu2+ + 2H2O
用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的离子反应
用双氧水和稀硫酸处理印刷电路板的化学方程式
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