磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和交流磁控溅射法还有射频磁控溅射 非平衡磁控溅射
来源：学生作业帮助网 编辑：六六作业网 时间：2024/12/19 05:06:32
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磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和交流磁控溅射法
还有射频磁控溅射 非平衡磁控溅射
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主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.
磁控溅射是在二极直流溅射的基础上,在靶表面附近增加一个磁场.电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离子和电子的密度增加.放电区的有效电阻变小,电压下降.另外放电区集中在靶表面,放电区中的离子密度高,所以入射到靶表面的离子密度大大提高,因而溅射产额大大增加.
磁场如果能够自闭和称为平衡磁控溅射,不能自闭和称为非平衡磁控溅射.
溅射电源通常有下列几种,直流电源,射频电源,直流脉冲电源和中频电源.溅射电源频率区间为5 30MHz的称为射频溅射.
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