PN结耗尽层宽度跟参杂浓度的关系不明白为什么高参杂的时候耗尽层宽度很窄?齐纳击穿说不大的反向电压就可以在耗尽层形成很强的电厂,而直接破坏共价键,这句话不太明白,可不可以这样理
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/19 21:06:08
PN结耗尽层宽度跟参杂浓度的关系不明白为什么高参杂的时候耗尽层宽度很窄?齐纳击穿说不大的反向电压就可以在耗尽层形成很强的电厂,而直接破坏共价键,这句话不太明白,可不可以这样理
PN结耗尽层宽度跟参杂浓度的关系
不明白为什么高参杂的时候耗尽层宽度很窄?
齐纳击穿说不大的反向电压就可以在耗尽层形成很强的电厂,而直接破坏共价键,这句话不太明白,可不可以这样理解:耗尽层的宽度很窄,加上反向电流,加速漂移运动,耗尽层变得更窄,直至击穿.
总的来说,齐纳击穿和雪崩击穿的性质和区别没能理解,望懂的人给在下讲解讲解,
PN结耗尽层宽度跟参杂浓度的关系不明白为什么高参杂的时候耗尽层宽度很窄?齐纳击穿说不大的反向电压就可以在耗尽层形成很强的电厂,而直接破坏共价键,这句话不太明白,可不可以这样理
第一问:对于N型半导体,自由电子是多数载流子(多子)——杂质原子提供,空穴是少数载流子(少子)——热激发形成;而P型半导体,空穴是多子——掺杂形成,自由电子是少子——热激发形成.多子的数量与掺杂浓度有关,高掺杂则多子数量多.P型半导体和N型半导体中间的空间电荷区就是PN结,因为其缺少多子又称耗尽层.高掺杂时耗尽层两端的浓度差大,多子的扩散运动剧烈,空间电荷区理论上加宽,但是空间电荷区产生的内电场导致少子的漂移运动也剧烈,空间电荷区又要变薄,最终要达到动态平衡,所以相比低掺杂时达到动态平衡所需时间更短,载流子运动距离短,电子和空穴很快就复合了,耗尽层也就窄了.
“齐纳击穿说不大的反向电压就可以在耗尽层形成很强的电场”,前面已经说过高掺杂,耗尽层宽度(d)小,将其看成平行板电容器,内电场E=U/d,所以E很强,直接打断共价键.
第二问:齐纳击穿,掺杂浓度高,内电场强,利用这一性质做成了稳压管;
雪崩击穿,掺杂浓度低,碰撞电离,就像滚雪球的倍增效应,利用这一性质做成了整流二极管.两者都属于电击穿,一定条件下是可逆的.