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来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/11/28 09:18:19
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蚀刻后的酸洗一般使用稀H2SO4(4%).
印刷版蚀刻目前业界一般使用的是H2O2/HCl系列和NaClO3/HCl系列.通常使用于单面板蚀刻、多层板的内层蚀刻或Tenting流程的外层蚀刻上.
双氧水/盐酸:最高可蚀刻铜约160克/公升.
反应:Cu + H2O2 + 2HCl →CuCl2 + 2H2O
氯酸钠/盐酸:最高可蚀铜达180克/公升
反应:3Cu + NaClO3 + 6HCl → 3CuCl2 + 3H2O + NaCl