晶体硅太阳能电池片扩散工艺现状及发展

来源：学生作业帮助网编辑：六六作业网时间：2024/12/19 06:06:32

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晶体硅太阳能电池片扩散工艺现状及发展
晶体硅太阳能电池片扩散工艺现状及发展

晶体硅太阳能电池片扩散工艺现状及发展
现在很多企业在做高阻试验,可以降低复合中心,提高均匀性,提高效率,目前做的比较好的在60左右,也有人在尝试70,这种方式对烧结工艺有着很高的要求.
SE选择性扩散,此工艺可以提升单晶效率至18.5%左右,此工艺方法有很多种,但目的是一样,支持选择性扩散设备不多（今年估计国内回有批量做SE的）,对栅线印刷很高,这有可能在设备成熟以后提高效率的一个大发展方向!
HIT双面电池,这个是双面扩散,双面电池制作,效率可以提升至20%左右,但目前还没有厂家批量生产,成本高、制作工艺复杂,还停留在实验室研发!
当然,出了扩散外还有其他方法去提升效率.
个人见解、胡编乱造、万望指教!

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