磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/11/08 09:52:00
磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术镀膜的时候采用高温,主要目的是增加膜材料和基板的结合牢固度,实际上要想达到高温,所需要的设备

磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术
磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术

磁控溅射镀膜为什么是一种低温沉积技术
镀膜的时候采用高温,主要目的是增加膜材料和基板的结合牢固度,实际上要想达到高温,所需要的设备肯定要比常温镀膜增加不菲的费用的.如果能够,谁都不想.
而溅射式镀膜在成熟以后,微粒或者微粒团的能量很大,有效的解决了牢固度问题,所以一般不会去增加温度,也就成了低温沉积技术.
从另一个角度讲,蒸发镀膜是把材料熔化成液体再镀膜,一般要1300度以上,属于典型的高温.
而溅射镀膜是使用电子激发的方式,把原子级别的粒子团从靶材上喷射出来,属于低温.