磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?不知为
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/18 18:13:57
磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?不知为磁控溅射中在溅射过程中一直
磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?不知为
磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津
即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?
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首先,真空腔室存在漏气,如果没有连续抽气,外界的空气就会渗入腔体,影响工作气体的洁净度,可能使得薄膜氧化或者氮化;其次,溅射是一个动态平衡,需要不断的更新靶表面的气体保持工作状态不变,否则无法获得结构均一,性能良好的薄膜.
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是不是这样能够排出一些杂质,保持里面的环境纯度?你认为呢
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运用磁控溅射方法,在金丝(Au)上溅射一层金属锌膜,需要什么样的溅射条件啊?溅射条件,比如压强、真空度、功率,时间等等等等.
磁控溅射Cu的时候,基底温度大概有多少度?要是溅射铝呢?能不能在塑料上溅射铜呢?
磁控溅射靶在溅射薄膜时靶没有辉光,电压在800伏,其他情况都正常.怎么回事?
请问磁控溅射中镀氧化锌薄膜 靶材选锌还是氧化锌,
磁控溅射中靶中毒是怎么回事,一般的影响因素是什么?
直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
蓄电池在放电过程中会一直保持恒压么
球在飞行过程中速度一直改变,原因是
真空磁控溅射ITO的最佳靶基距,硅靶中频反应溅射SIO2的最佳靶基距.
为什么蜡烛在融化过程中温度一直上升,而冰在融化过程中温度一直保持不变?
铬酸洗液(浓硫酸+重铬酸钾)可以做化尸水么?一只鸡翅浸泡在溶液中5分钟,最后就剩这么点骨头.可是反应过程中会产生刺鼻气味的气体.也会产生大量气泡,并且四处溅射.请帮忙分析下,产生的
真空蒸镀与溅射镀膜优缺点蒸镀用的是环形电子枪加热,溅射用的是平面磁控溅射.麻烦说一下这两种镀膜方式各自优缺点
真空状态对镀铝膜的过程在哪几个方面产生影响还有溅射过程中充入的氟气有什么作用?充入的量对溅射的影响?
在化学变化中一定同时发生物理变化.在化学变化过程中一定同时发生物理变化.那句话对
磁控溅射镀膜中 氧气 氩气 氮气 分别起什么主要作用?