磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/12/23 20:08:55
磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化磁控

磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化
磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟
工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化二铟的因素有哪些方面.

磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟工作环境为2.8*10-3mbar真空度,1.5厘米间距阻值要200欧姆左右.影响最终在基片上生成为三氧化
氧流量,控制靶中毒.
沉积膜时的时间,
基材的清洁问题,

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