光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂,请问具体的工艺步骤是什么?具体问题如下：1）HMDS是如何涂在硅片表面的?是像匀胶那样甩涂吗?另外,是在什么温度下操作,需不需要在加热硅片的同时涂覆,
来源：学生作业帮助网 编辑：六六作业网 时间：2024/12/24 01:15:35
光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂,请问具体的工艺步骤是什么?具体问题如下：1）HMDS是如何涂在硅片表面的?是像匀胶那样甩涂吗?另外,是在什么温度下操作,需不需要在加热硅片的同时涂覆,
光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂,请问具体的工艺步骤是什么?具体问题如下：
1）HMDS是如何涂在硅片表面的?是像匀胶那样甩涂吗?另外,是在什么温度下操作,需不需要在加热硅片的同时涂覆,还是等去把硅片清洗完毕烘干冷却后甩涂?
2）在涂光刻胶之前需要把涂有HMDS的硅片烘干冷却后在涂光刻胶吗?还是把涂有HMDS的硅片不烘干直接涂胶?
3）在HMDS上面在滴光刻胶甩涂时,光刻胶内的溶剂会不会又把HMDS层给破坏呢?
4）在显影过程中硅片表面的HMDS层如何去除掉才能使被刻蚀的硅表面露出?
期待相关领域的专家指教,
光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂,请问具体的工艺步骤是什么?具体问题如下：1）HMDS是如何涂在硅片表面的?是像匀胶那样甩涂吗?另外,是在什么温度下操作,需不需要在加热硅片的同时涂覆,
1,HMDS是气相涂布在硅片表面,也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一会儿,温度约100-180度即可
2,HMDS处理后需要冷却后涂胶,但等待时间不能太长,过长处理效果会变差,建议4小时内完成涂胶
3,HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果
4,HMDS本身是表面改性,HMDS本身不会涂在园片表面,因此不用担心去除HMDS层
主意：HMDS有生殖毒性,使用时候青年男女请谨慎使用
HMDS是容易挥发的液体，因此是气相涂布在表面，需要一个烘箱，链接HMDS管路，烘烤后把HMDS蒸汽吸入烘箱并处理1分钟后即可。
HMDS是极易挥发的液体，甩涂的方法倒没听说过。只要有烘箱就可以处理了呀。HMDS处理流程肯定是要必须密闭并且有专门真空环境的，否则效果不佳。
再次提醒：HMDS有毒性，不是随便玩的。看看日本人的ACT，MARK等设备的预处理腔体设置的多重防泄漏装置就知道他有多危险了。...
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HMDS是极易挥发的液体，甩涂的方法倒没听说过。只要有烘箱就可以处理了呀。HMDS处理流程肯定是要必须密闭并且有专门真空环境的，否则效果不佳。
再次提醒：HMDS有毒性，不是随便玩的。看看日本人的ACT，MARK等设备的预处理腔体设置的多重防泄漏装置就知道他有多危险了。
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