简述光刻的工艺过程(步骤)

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/07/17 06:39:09
简述光刻的工艺过程(步骤)简述光刻的工艺过程(步骤)简述光刻的工艺过程(步骤)1.wafer表面处理;2.旋涂光刻胶(包括抗反射层)3.前烘;4.曝光;5.后烘;6.显影,有的需要在显影前进行坚膜;7

简述光刻的工艺过程(步骤)
简述光刻的工艺过程(步骤)

简述光刻的工艺过程(步骤)
1. wafer 表面处理;
2. 旋涂光刻胶(包括抗反射层)
3. 前烘;
4. 曝光;
5. 后烘;
6. 显影,有的需要在显影前进行坚膜;
7. 刻蚀