半导体中自由电子与空穴的能级是否一致?不一致的话,他们能否复合?金属中的电子的能级是连续的,那么是不是金属中的电子都能与半导体中的空穴复合?我的说法可能有问题。也许应该叫做

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/11/15 06:09:35
半导体中自由电子与空穴的能级是否一致?不一致的话,他们能否复合?金属中的电子的能级是连续的,那么是不是金属中的电子都能与半导体中的空穴复合?我的说法可能有问题。也许应该叫做半导体中自由电子与空穴的能级

半导体中自由电子与空穴的能级是否一致?不一致的话,他们能否复合?金属中的电子的能级是连续的,那么是不是金属中的电子都能与半导体中的空穴复合?我的说法可能有问题。也许应该叫做
半导体中自由电子与空穴的能级是否一致?不一致的话,他们能否复合?
金属中的电子的能级是连续的,那么是不是金属中的电子都能与半导体中的空穴复合?
我的说法可能有问题。也许应该叫做能带。可是,电子可以在不同的能带上运动吗?如果是可以在不同的能带上运动,那么能量如何转化?

半导体中自由电子与空穴的能级是否一致?不一致的话,他们能否复合?金属中的电子的能级是连续的,那么是不是金属中的电子都能与半导体中的空穴复合?我的说法可能有问题。也许应该叫做
首先,电子在半导体中的能级是准连续的,可以近似认为是一簇一簇距离非常近的能级构成--这每一簇能级就是能带,能带和能带之间是有相对较大的能量差的,之间这段距离称为能隙(禁带).而电子在金属中的能带结构简单,可以认为是一个能级(但和真空中电子能级有差距,后面会讲)
如果你问金属中的电子能否与半导体中的空穴复合,这就涉及到MS接触,就是金属和半岛体接触;(PN结原理不知你知不知道,那是半导体与半导体之间的接触,这里是金属和半导体接触).
简单来讲,金属内的电子所含有的能量(所处能级记为Ef--就是费米能级,即大多数电子所处的能级)小于金属表面(近似于真空的电子能级E0),我们称电子从金属内部逸出到表面所需要的能量为功函数Wm=E0-Efm(m代表金属)
半导体的能带结构,如果你有所了解的话,会知道在电子(空穴)所处能级是费米能级Ef,导带底能级为Ec,价带顶为Ev;这个不明白也没关系,你就想像费米能级夹在他们两个能级之间,这是大多数电子所处的能级.记半导体电子逸出到表面所需的能量Ws=E0-Efs(s代表半导体)
当接触时(忽略M,S间的间隙),{注意:不同类型的半导体能带结构不同,所以引起的效果也不同},以n型半导体和金属接触为例(假设Wm>Ws),接触后电子系统统一,即两部分费米能级持平;(不清楚可以自己画画关系,要不就接本半导体物理看看)又由于Wm>Ws,所以Efs>Efm,即电子易从半导体流向金属,使半导体表面带正电(因为原来是中性的,现在带负电的电子走了一部分),金属表面带负电.
如果像你所说到的问题中,带有空穴的半导体(空穴为多子)--P型半导体,和金属接触时(先假设WmWs的话,情形相反,半导体价带顶和导带底在接触处向上弯曲,形成反阻挡层,即电子易从金属进入半导体,而空穴不容易从半导体进入金属,这样电子和空穴会在半导体表面进行复合.
至于Wm和Ws的关系如何,这和不同金属元素和半导体掺杂有关.
但应注意的是,如果半岛体表面态密度很大,它可以屏蔽金属接触的影响,即半导体和金属接触时的势垒高度和金属功函数Wm几乎无关,而仅由半导体的表面性质所决定.这个你要想深入了解就自己看书吧.
至于补充问题,当电子在不同能带上迁移时,必须有足够的能量让他跨越禁带的势垒.即使在不同能级间跃迁时也要提供或释放能量.
在半导体器件实现上,一般这些能量都是由外电压提供.

波尔理论是能级说的,但能级不是连续的
电子的越迁从一个能级到另一个能级,由内到外即从低能级到高能级,需要吸收能量,如接收光子,有一定频率要求,这个光子能量,需要比越迁的能级间能量差大.多余的能量好像是电磁波或什么射线方式消耗吧.能量足够大时,电子会逸出原子核,即发生光电效应,这个临界能量即为逸出功.这个过程不是自发的,电子处在高能级是不稳定的状态.
能级的话,离核近的能级小一些...

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波尔理论是能级说的,但能级不是连续的
电子的越迁从一个能级到另一个能级,由内到外即从低能级到高能级,需要吸收能量,如接收光子,有一定频率要求,这个光子能量,需要比越迁的能级间能量差大.多余的能量好像是电磁波或什么射线方式消耗吧.能量足够大时,电子会逸出原子核,即发生光电效应,这个临界能量即为逸出功.这个过程不是自发的,电子处在高能级是不稳定的状态.
能级的话,离核近的能级小一些
从高能级到低能级释放能量,电子处在高能级是不稳定的状态,没有持续的外部条件会自发的回到低能级

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电子可以在不同的能带上运动,但是需要释放或吸收能量来实现能级的跃迁,
而能量则=hv,h为普朗克常数,v为频率,能量以光子的形式释放吸收

电子的能级是连续的???貌似不是吧!反正高等化学不是这样说的。
理论上是可以复合的,要的是能极差恰好相同。可以查看一些结构化学的书哦!

1):你所说的“能级”是“能带理论”。能带理论中只有两个能级可以导电,一个是导带,一个是价带。价带和导带中间叫做禁带,禁带里是不允许有电子或者空穴存在的。禁带的禁也就是这个意思。
2) 电子运动都是在导带运动的,空穴运动都是在价带。如果电子跑到价带,就会和空穴复合。这时的能量变化是通过光发射出去,这就是发光二极管的原理。
3)不是说金属的电子连续,而是说金属的导带和价带重合在一起,...

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1):你所说的“能级”是“能带理论”。能带理论中只有两个能级可以导电,一个是导带,一个是价带。价带和导带中间叫做禁带,禁带里是不允许有电子或者空穴存在的。禁带的禁也就是这个意思。
2) 电子运动都是在导带运动的,空穴运动都是在价带。如果电子跑到价带,就会和空穴复合。这时的能量变化是通过光发射出去,这就是发光二极管的原理。
3)不是说金属的电子连续,而是说金属的导带和价带重合在一起,你也可以说只有导带没有价带,所以金属中只有电子运动,没有空穴运动。
4)如果你是指金属和半导体接触的话,金属中的电子和半导体中的空穴是会复合的,能量差以发光的形式发出。但是前提条件是你如何把金属的电子搞到半导体的导带去呢?对于金属和GaN接触是可能的,但是对于金属和硅接触是可能性不大的。

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半导体中自由电子与空穴的能级是一致的,当半导体两端反向加电压时,自由电子与空穴复合,半导体中将不含自由电子,表现出半导体不导电.
当半导体正向加电压时,自由电子与空穴分离,半导体则将含有可以自由移动的电子以及不可以移动带正电的空穴,所以半导体在加正向电压时可以导电.加反向电压时不导电....

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半导体中自由电子与空穴的能级是一致的,当半导体两端反向加电压时,自由电子与空穴复合,半导体中将不含自由电子,表现出半导体不导电.
当半导体正向加电压时,自由电子与空穴分离,半导体则将含有可以自由移动的电子以及不可以移动带正电的空穴,所以半导体在加正向电压时可以导电.加反向电压时不导电.

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半导体中自由电子与空穴的能级是否一致?不一致的话,他们能否复合?金属中的电子的能级是连续的,那么是不是金属中的电子都能与半导体中的空穴复合?我的说法可能有问题。也许应该叫做 导体与半导体 载流子为什么不同,导体中不也是束缚电子转化为自由电子的吗,为什么导体中没有空穴啊 N型半导体中自由电子多于空穴,它是否带负电?为什么?我知道 半导体本身不带电.就是不知道该怎么说原因. 空穴导电的实质模电书上说,在外加电场时,本征半导体的电流是自由电子的电流与空穴电流之和.是否可以这么理解:有7种动作:1、自由电子----在自由空间中沿电场定向运动;2、自由电子--- 本征半导体中掺入[ ]族元素 例如[]得到N型半导体N型半导体的空穴浓度[ ]自由电子浓度 [ ]本征空穴浓度? 室温下,本征半导体硅中自由电子和空穴的浓密度关系是 在半导体中,电了导电和空穴导电有什么区别?空穴电流是不是由自由电子递补空穴所形成的 半导体PN结中参与导电的载流子是空穴和自由电子,那是否意味着流过PN结的电流为自由电子的两倍?为什么在计算时仍然是电流=电压/电阻.而不是电流的二倍? N型半导体中的自由电子多于空穴,而P型半导体中的空穴多于自由电子,是否N型半导体带负电,P型带正电? n型半导体中的空穴是怎么形成的还有为什么自由电子比空穴多 怎样闭着眼想象半导体中载流子(自由电子和空穴)在通电时的运动?在脑袋里建立一个半导体在通电或不通电情况下的图象. N型半导体多数载流子是自由电子,P型半导体是空穴,是否N型的带负电,p型的带正电 当温度升高时,本征半导体中载流子的浓度:A.自由电子浓度增大,空穴浓度减小 为什么p型半导体空穴多于自由电子 N型半导体与金属中谁的自由电子多? 在半导体中,有自由电子和空穴两种载流子导电对还是错 P型半导体和N型半导体为什么是呈电中性?在本征半导体中每产生一个电了必然会有一个空穴出现,自由电子和空穴是成对出现的,但在本征半导体硅或锗的晶体管中掺入微量三价元素硼(或镓 半导体电流向问题晶体中存在两种载流子,即带负电自由电子和带正电空穴,自由电子的方向是与电流的方向相反的,那负极的电流如何流?二极管的负极是不是需要-0.6V的导通电压也可以击穿,负